发明名称 METHOD FOR POLISHING SEMICONDUCTOR SUBSTRATE
摘要
申请公布号 KR100625131(B1) 申请公布日期 2006.09.20
申请号 KR20040115867 申请日期 2004.12.30
申请人 发明人
分类号 B24B5/00;B24B29/02;B24B37/30;H01L21/302;H01L21/304;H01L21/32;H01L21/461;H01L21/68 主分类号 B24B5/00
代理机构 代理人
主权项
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