发明名称 |
具有抗反射膜的光学元件 |
摘要 |
本发明的目标是提供一种具有形成在塑料基材上的抗反射膜的光学元件,其优点是抗反射膜的反射率低而其透射率高,在塑料基材上的抗冲击性能、粘附性能、耐热性、耐磨损性能和耐碱性优异,并且生产率良好。用具有抗反射膜的光学元件达到了上述目标,该光学元件具有塑料基材和通过真空蒸发在其上形成的抗反射膜,其中至少一层抗反射膜是由无机物和有机物制成的混合层。 |
申请公布号 |
CN1276273C |
申请公布日期 |
2006.09.20 |
申请号 |
CN02147181.9 |
申请日期 |
2002.10.25 |
申请人 |
保谷株式会社 |
发明人 |
三石刚史;白川宽;新出谦一 |
分类号 |
G02B1/04(2006.01);G02B1/11(2006.01) |
主分类号 |
G02B1/04(2006.01) |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
郭建新 |
主权项 |
1.一种具有抗反射膜的光学元件,它包含塑料基材和形成在该塑料基材上的可通过真空蒸发得到的抗反射膜,其中至少一层抗反射膜是含有无机物和有机物的混合层,并且其中抗反射膜的配置是使一层混合层最接近塑料基材,而与第一混合层可以相同也可以不同的另一混合层最远离该塑料基材,其中混合层中的无机物是SiO<sub>2</sub>,或者是SiO<sub>2</sub>和Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>,或者是选自Nb<sub>2</sub>O<sub>5</sub>、Ta<sub>2</sub>O<sub>5</sub>、TiO<sub>2</sub>、ZrO<sub>2</sub>和Y<sub>2</sub>O<sub>3</sub>的至少一种无机氧化物;其中混合层中的有机物是改性硅油,所述改性硅油包括一种或多种具有下列通式(a)~(d)中任一结构的化合物:(a)具有引入到聚硅氧烷侧链的有机基团的改性硅油:<img file="C021471810002C1.GIF" wi="1644" he="424" />(b)具有引入到聚硅氧烷两端的有机基团的改性硅油:<img file="C021471810002C2.GIF" wi="1510" he="454" />(c)具有引入到聚硅氧烷一端的有机基团的改性硅油:<img file="C021471810003C1.GIF" wi="1392" he="463" />(d)具有引入到聚硅氧烷侧链和两端的有机基团的改性硅油:<img file="C021471810003C2.GIF" wi="1613" he="360" />在通式(a)~(d)中,m和n各自独立地表示0或大于0的整数;并且在通式(c)中,R表示具有1~10个碳原子的烷基、具有2~10个碳原子的链烯基或具有2~10个碳原子的链炔基,其中有机基团选自氨基、环氧基、羧基、羟基、具有1~15个碳原子的含羟基的烃基、甲基丙烯酸基、巯基、酚基、具有1~15个碳原子的烷氧基、具有1~15个碳原子的带有一个或多个上面列举的取代基的烃基以及这些基团的组合,或者其中有机基团选自具有1~15个碳原子的烷基、具有2~15个碳原子的酯基、甲基苯乙烯基、具有2~15个重复单元的聚C<sub>2-15</sub>亚烷基醚基、具有16~20个碳原子的饱和或不饱和脂肪酸的酯和具有1~15个碳原子的被一个或多个氟原子取代的烃基;并且其中膜的混合层中有机物的含量为0.02%重量~70%重量。 |
地址 |
日本东京都 |