PVD coating process magnetron cathodic sputtering,申请号EP20020011204-传众专利搜索

发明名称	PVD coating process magnetron cathodic sputtering
摘要
申请公布号	EP1260603(B1)	申请公布日期	2006.09.20
申请号	EP20020011204	申请日期	2002.05.21
申请人	SHEFFIELD HALLAM UNIVERSITY	发明人	MUENZ, WOLF-DIETER, PROF. DR.;EHIASARIAN, ARUTIUN P., DR.;HOVSEPIAN, PAPKEN EH., DR.
分类号	C23C14/00;C23C14/02;C23C14/06;C23C14/35	主分类号	C23C14/00
代理机构		代理人
主权项
地址