| 发明名称 | 基片清洁装置和基片处理设备 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种基片清洁装置，它包括：第一清洁室，该第一清洁室包括用于清洁设置于其中的基片的第一清洁部分；以及第二清洁室，该第二清洁室包括用于清洁设置于其中的基片的第二清洁部分。该第一清洁室叠置在第二清洁室上，这样，第一清洁室的至少一部分重叠在第二清洁室的至少一部分上。 | ||
| 申请公布号 | CN1275705C | 申请公布日期 | 2006.09.20 |
| 申请号 | CN200410001882.X | 申请日期 | 2004.01.15 |
| 申请人 | 夏普株式会社 | 发明人 | 吉泽武德 |
| 分类号 | B08B5/00(2006.01) | 主分类号 | B08B5/00(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 李瑞海;王景刚 |
| 主权项 | 1.一种基片清洁装置，包括：第一清洁室，包括用于清洁放于其中的基片的第一清洁部分；以及第二清洁室，包括用于清洁放于其中的基片的第二清洁部分；其中，所述第一清洁室叠置在所述第二清洁室上，使所述第一清洁室的至少一部分重叠在所述第二清洁室的至少一部分上，并且包括一过滤器，该过滤器设置在所述第一清洁室和所述第二清洁室的重叠区域中。 | ||
| 地址 | 日本大阪府 | ||