真空镀膜机用成型镀膜靶材

摘要

本实用新型涉及一种适用于真空镀膜机使用的镀制各种光学薄膜的成型镀膜靶材。该靶材采用与真空镀膜机坩埚内壁形状相符的成型块状结构，其结构形状为：柱状、圆台状、锥台状、环状、半环状、扇环状、盘状，是由超细粉状的镀膜材料经高压成型后真空烧结而制成。该靶材具有密度高、晶粒细小均匀的特点，由于采用的是整体成型块状，因此使用时间长，能够适应长时间地镀制多层光学薄膜，而且在真空镀膜后，膜厚均匀一致，重现性好，便于实现稳定批量生产。该镀膜靶材在使用中更换方便，能够提高镀膜效率，提高成品率，降低生产成本，特别适用于高品质、高精度光学产品的镀膜。

主权项

1、一种真空镀膜机用成型镀膜靶材，其特征在于：该镀膜靶材采用与真空镀膜机坩埚内壁形状相符的成型块状结构。