首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 COMPOSITION OF SLURRY IMPROVING SURFACE QUALITY ON SILICON WAFER AND POLISHING SILICON WAFER USING THEREOF
摘要
申请公布号 KR20060097786(A) 申请公布日期 2006.09.18
申请号 KR20050018492 申请日期 2005.03.07
申请人 CHEIL INDUSTRIES INC.;MEMC KOREA CO., LTD. 发明人 ROH, HYUN SOO;PARK, TAE WON;LEE, TAE YOUNG;LEE, IN KYUNG;LEE, CHIN HO;KIM, YOUNG WOO;CHOI, MOON RO;KIM, JONG SEOP
分类号 C09K3/14 主分类号 C09K3/14
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com