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发明名称 Apparatus for processing substrate using plasma
摘要
申请公布号 KR100622831(B1) 申请公布日期 2006.09.18
申请号 KR20040025188 申请日期 2004.04.13
申请人 发明人
分类号 H05H1/46 主分类号 H05H1/46
代理机构 代理人
主权项
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