发明名称 MANUFACTURING METHOD FOR CAPACITOR HAVING TUNGSTEN DOUBLE LAYER FOR COMPENSATING STRESS
摘要
申请公布号 KR20060097865(A) 申请公布日期 2006.09.18
申请号 KR20050018743 申请日期 2005.03.07
申请人 SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. 发明人 KWON, THOMAS JONG WAN;KIM, SUNG TAE;KIM, YOUNG SUN;YOO, CHA YOUNG;PARK, YOUNG GEUN;CHOI, JAE HYOUNG;CHUNG, EUN AE;YEO, JAE HYUN;IM, KI VIN;CHUNG, JUNG HEE
分类号 H01L21/8242 主分类号 H01L21/8242
代理机构 代理人
主权项
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