发明名称 内连线制程以及复合式介电阻障层的制造方法
摘要 一种内连线制程,包括提供一介电层,且介电层中具有多数个开口。接着,形成一金属层以填满这些开口。继之,形成第一介电阻障层,以覆盖介电层与金属层。然后,再于第一介电阻障层上形成一第二介电阻障层,利用此第二介电阻障层修补第一介电阻障层,以提高制程之可靠度与良率。
申请公布号 TW200633128 申请公布日期 2006.09.16
申请号 TW094106210 申请日期 2005.03.02
申请人 联华电子股份有限公司 发明人 吴一经;陈明德;萧志祥;陈彦竹;陈先亿
分类号 H01L21/768 主分类号 H01L21/768
代理机构 代理人 詹铭文;萧锡清
主权项
地址 新竹市新竹科学工业园区力行二路3号