发明名称 | 内连线制程以及复合式介电阻障层的制造方法 | ||
摘要 | 一种内连线制程,包括提供一介电层,且介电层中具有多数个开口。接着,形成一金属层以填满这些开口。继之,形成第一介电阻障层,以覆盖介电层与金属层。然后,再于第一介电阻障层上形成一第二介电阻障层,利用此第二介电阻障层修补第一介电阻障层,以提高制程之可靠度与良率。 | ||
申请公布号 | TW200633128 | 申请公布日期 | 2006.09.16 |
申请号 | TW094106210 | 申请日期 | 2005.03.02 |
申请人 | 联华电子股份有限公司 | 发明人 | 吴一经;陈明德;萧志祥;陈彦竹;陈先亿 |
分类号 | H01L21/768 | 主分类号 | H01L21/768 |
代理机构 | 代理人 | 詹铭文;萧锡清 | |
主权项 | |||
地址 | 新竹市新竹科学工业园区力行二路3号 |