曝光方法及曝光装置

摘要

本发明系揭示一种曝光方法，其包含：将具有排列于行方向之第1及第2曝光场的光阻膜形成于基板上，为将设计图案转印至上述第1及第2曝光场而将上述基板搭载于扫描型曝光装置，使用光路介质膜形成部形成光路介质膜，一面使上述基板于与行方向平行之方向上移动，一面使以光学图案影像生成部产生之光学图案影像变化，将设计图案转印至第1或第2曝光场；且不改变上述基板之移动方向及上述光路介质膜之流动方向而连续地进行向第1及第2曝光场转印设计图案者。