涂布、显影装置、光阻图案形成方法、曝光装置及洗净装置

摘要

一种涂布．显影装置，于光阻涂布后浸液曝光前，或浸液曝光后显影前，以简单构造除去附着于半导体晶圆之微粒。于浸液曝光前，以喷嘴部将晶圆洗净，该喷嘴部系于与晶圆之直径长度大致相当之洗净液吐出口而侧，平行设有狭缝状之吸引口。另外，使用喷嘴部进行浸液曝光后，于显影前洗净晶圆，于该喷嘴部之两端部具有包围晶圆周缘部之字型部，在上面部及下面部内侧具有洗净液吐出口，且下面部具有包围洗净液吐出口之吸引口，且侧面部具有吸引口。由于洗净液对晶圆表面或周缘部边吐出边被吸引，故于晶圆周围不需回收洗净液之回收杯，结果，能期待涂布、显影装置整体之省空间化。