适用于浸渍曝光之正型光阻组成物及使用它之图案形成方法

摘要

本发明揭示一种适用于浸渍曝光之正型光阻组成物，其包括：(A)一种具有脂环烃结构之树脂，其中树脂可因酸之作用增加树脂(A)在硷显影剂中之溶解度，(B)一种在以光化射线与放射线之一照射时可产生酸之化合物，其中树脂(A)在图案区域中以20％或以下至全部面积之面积比例包括分子量为1,000或以下(藉凝胶穿透层析术)之成分，及一种使用它之图案形成方法。