浅沟渠隔离结构之制造方法

摘要

一种浅沟渠隔离结构之制造方法，适用于一基底，于该基底形成一介电薄层后，于介电薄层上形成一缓冲层，其中此缓冲层具有一第一厚度。接着，于该缓冲层上，形成一硬罩幕层，其中此硬罩幕层具有一第二厚度。图案化硬罩幕层、缓冲层、介电薄层与基底，以在基底中形成一沟渠，并在硬罩幕层、缓冲层与介电薄层中形成一开口。于开口与沟渠中，形成一绝缘层以填满开口与沟渠。移除硬罩幕层、部分绝缘层以及缓冲层，以在基底中形成突出于基底表面之一浅沟渠隔离结构。