于电化学处理工作表面期间消除气泡滞留之方法

摘要

提供用以于电化学处理一基板期间消除滞留气泡之若干方法与系统，其中一具有若干流体开口(520)之刚性板(500)允许处理溶液(505)于该基板(503)之前表面(510)与一电极(506)之间流动。该刚性板(500)包括一突出区域(524)。操作中，在将该基板(503)完全浸没于该溶液(505)之前，该突出区域使一凸起之溶液表面(526)接触该晶圆之该前表面(510)。