发明名称 |
用于测量有关一基材之资讯之一方法,以及用于使用在一微影装置内之一基材 |
摘要 |
本发明揭示一种用于测量一基材所提供之资讯之方法。该基材包括由一微影装置所建立之一特征。该方法包括将一光束投影到配置于该基材上之该特征上方及/或附近的一标记上,且采用一感测器侦测该标记所提供之资讯。在该基材上配置一涂层,使得该涂层位于该光束与该特征之间,以实质上防止该特征反射该光束而导致无法精确地读出该标记所提供之该资讯。 |
申请公布号 |
TW200632583 |
申请公布日期 |
2006.09.16 |
申请号 |
TW094146398 |
申请日期 |
2005.12.23 |
申请人 |
ASML公司 |
发明人 |
圣杰西 拉巴哈铎辛;玛可 乔汉娜 安玛莉 彼得氏;ANNEMARIE;贞 豪思乔;柯恩 凡 丹 敏 |
分类号 |
G03F7/20 |
主分类号 |
G03F7/20 |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文 |
主权项 |
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地址 |
荷兰 |