发明名称 GaN基板之研磨方法
摘要 在本发明之GaN基板之研磨方法中,首先,一面将含研磨材料23与润滑剂25之研磨液27供应至平台101,一面利用平台101与研磨液27研磨GaN基板(第1研磨步骤)。其次,一面将润滑剂31供应至埋入研磨材料29之平台101上,一面利用埋入研磨材料29之平台101研磨GaN基板(第2研磨步骤)。
申请公布号 TW200633045 申请公布日期 2006.09.16
申请号 TW095100221 申请日期 2006.01.03
申请人 住友电气工业股份有限公司 发明人 松本直树
分类号 H01L21/306 主分类号 H01L21/306
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 日本