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发明名称
GaN基板之研磨方法
摘要
在本发明之GaN基板之研磨方法中,首先,一面将含研磨材料23与润滑剂25之研磨液27供应至平台101,一面利用平台101与研磨液27研磨GaN基板(第1研磨步骤)。其次,一面将润滑剂31供应至埋入研磨材料29之平台101上,一面利用埋入研磨材料29之平台101研磨GaN基板(第2研磨步骤)。
申请公布号
TW200633045
申请公布日期
2006.09.16
申请号
TW095100221
申请日期
2006.01.03
申请人
住友电气工业股份有限公司
发明人
松本直树
分类号
H01L21/306
主分类号
H01L21/306
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
日本
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