使用一真空腔体来制造半导体元件之系统和其方法

摘要

本发明是有关于制造半导体元件，特别是有关于使用一真空腔体来制造半导体元件。在一实例中，用于半导体制造之一方法包含：提供一光阻层于一晶圆上；使用一真空腔体从光阻层上移除溶剂残渣物；以及对此晶圆进行曝光。