发明名称 微影装置、光栅调换单元及器件制造方法
摘要 本发明揭示一种在微影装置中移动一光栅的光栅调换单元。该光栅之表面系由一光罩护膜保护,该光罩护膜系藉着一气体可渗透光罩护膜框架附接于该光栅。该光栅调换单元包括一光栅准备室,配置以造成光罩护膜框架之复数个曝露气体可渗透部分面对光栅准备室的内部之一光栅运输单元,及耦合至该光栅准备室之一冲洗气压及抽气压供应源配置,其系配置以当光罩护膜框架之曝露气体可渗透部分系面对光栅准备室内部时,交替地提供一冲洗气压及低于冲洗气压之抽气压至光栅准备室,使得流过该光罩护膜框架的气体交替地进入且离开光罩护膜及光栅间之光罩护膜空间。
申请公布号 TW200632573 申请公布日期 2006.09.16
申请号 TW094141297 申请日期 2005.11.24
申请人 ASML公司 发明人 尼可拉斯 阗 凯特
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 荷兰