| 摘要 |
本发明系提供一种提高材料之选择自由度之新的图案之形成方法，同时提供膜形成方法、膜形成装置、形成图案之装置、光电装置及其制造方法、电子机器及电子装置及其制造方法。本发明系关于一种形成图案之装置1，其特征系由具备可调整为高真空度之真空箱2；与材料供给源7连接，且安装于该真空箱2，将材料供给源7之材料供给真空箱2内之喷嘴3；设置于真空箱2内，使基体S保持固定之基体台4所成。喷嘴3或基体台4上设置使该喷嘴与基体之相对位置移动的移动机构11。理想为产生材料分子之自由射流(free jet)，使用此自由射流进行溅镀(形成自由射流图案)。藉此可形成更高精度之图案。 |
