发明名称 发光半导体元件
摘要 本发明提出一种新颖之NPBL(nano–particle buffer layer)与ANPL(active layer with light emitting and current blocking nano–particles)发光半导体元件结构及其形成方法;其系藉由添加至该发光半导体元件结构发光层中的奈米粒子之作用而降低溢电流量;且本发明配合一般之平面化技术制程,所制得的发光半导体元件于巨观上具有平面化之结构,然就微观上而言,其膜层结构间并非平滑之平面,藉以破坏寄生之波导效应,以增进该半导体发光元件之取光效率。
申请公布号 TW200633250 申请公布日期 2006.09.16
申请号 TW094106863 申请日期 2005.03.07
申请人 华宇电脑股份有限公司 发明人 李森田;优瑞吉欧吉维奇史瑞特;优瑞图马索维奇瑞朋;罗斯南伊凡诺维奇葛布诺夫
分类号 H01L33/00 主分类号 H01L33/00
代理机构 代理人
主权项
地址 台北市松山区八德路4段758号