发明名称 脆质构件的处理装置
摘要 本发明之脆质构件的处理装置系设置成可进行下述一连串之处理,也就是在将其中一方的面黏合有玻璃板P之半导体晶圆W装载至圆形框架RF后,剥离玻璃板P,进行半导体晶圆W之移转结合,将残留于该半导体晶圆W之两面黏着薄片S剥离。移转结合装置20系设置成:在玻璃板P与半导体晶圆W之间形成剥离契机部62后,朝使圆形框架RF竖立之方向进行角度移位。本发明亦可适用于在半导体晶圆W之电路面仅黏合保护薄片之对象物,在此情况,移转结合装置方可作为晶圆移载时的中间平台来加以利用。
申请公布号 TW200633113 申请公布日期 2006.09.16
申请号 TW094141748 申请日期 2005.11.28
申请人 琳得科股份有限公司 发明人 明地武志
分类号 H01L21/68 主分类号 H01L21/68
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本