发明名称 |
用于抗反射聚合物膜涂层之低折射率涂料组合物及制备方法 |
摘要 |
本发明系关于一种经聚矽氧改质之含氟聚合物,其系藉由以下步骤形成:首先将含氟聚合物溶解于有机溶剂中,该含氟聚合物具有至少一种偶合至六氟丙烯单体单元之偏二氟乙烯单体,随后使该混合物与胺基矽烷偶合剂反应以形成经胺基矽烷改质之含氟聚合物。随后加热该胺基矽烷含氟聚合物且使其与包括烷氧基矽烷之矽烷化合物之寡聚物部分缩合。所得组合物适于用作光学基板上抗反射涂层之低折射率层。 |
申请公布号 |
TW200631994 |
申请公布日期 |
2006.09.16 |
申请号 |
TW094146574 |
申请日期 |
2005.12.26 |
申请人 |
3M新设资产公司 |
发明人 |
水野一彦 |
分类号 |
C08G81/02;B32B27/08;G02B1/11 |
主分类号 |
C08G81/02 |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文;简秀如 |
主权项 |
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地址 |
美国 |