用于研磨工作件的研磨垫

摘要

提出一研磨／研光(polishing／lapping)垫，供用于化学机械平坦化及其他研磨与研光操作中，其包含多个通道，以帮助于待平坦化的晶圆上，控制研磨剂(slurry)至特定位置。