发明名称 雷射二极体装置
摘要 本发明提供一种雷射二极体装置,其藉由将AlGaInN化合物半导体用作材料而能够获得高光效率并改良输出。该雷射二极体装置包括半导体层,该半导体层具有一作用层且由氮化物III–V族化合物半导体制成,该化合物半导体包含3B族元素中之铝(Al)、镓(Ga)及铟(In)中的至少一者及5B族元素中之氮(N)。该作用层具有一条形发光区域,该区域之宽度W为自5μm至30μm,长度L为自300μm至800μm,且来自该作用层之雷射光的输出为200mW或200mW以上。
申请公布号 TW200633330 申请公布日期 2006.09.16
申请号 TW094144613 申请日期 2005.12.16
申请人 新力股份有限公司 发明人 平田照二
分类号 H01S5/10;H01S5/323 主分类号 H01S5/10
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 日本