形成光阻图案和导体图案之方法

摘要

本发明之形成光阻图案的方法为一种包括下列步骤之形成光阻图案的方法：层积(a)上表面上存在有铜之载体，(b)由自无机物质源所供应的无机物质所组成的无机物质层，及(c)由化学增幅型负型光阻剂组成物所组成的光阻层之步骤，获得光阻层积层，以活性光或放射线选择性照射该光阻层积层之步骤，及使该(c)光阻层与该(b)无机物质层一起显像以形成光阻图案之步骤。