发明名称 包含场效电晶体的半导体元件
摘要 一种半导体元件包含一半导体区(semiconductor region)、源极区(source region)与汲极区(drain region)、闸极绝缘薄膜(gate insulating film)以及闸电极(gate electrode)。前述半导体区具有一平面定向(001)。前述源极区与汲极区互相远离地形成于前述半导体区中,且一通道区(channel region)形成于前述源极区与汲极区之间的半导体区中。前述通道区之通道长度方向(channel length direction)是沿着前述半导体区之方向<100>而设定。在前述通道长度方向中产生张应力(tensile stress)。前述闸极绝缘薄膜形成于前述源极区与汲极区之间的半导体区上。前述闸电极形成于前述闸极绝缘薄膜上。
申请公布号 TW200633212 申请公布日期 2006.09.16
申请号 TW094141665 申请日期 2005.11.28
申请人 东芝股份有限公司 发明人 菰田泰生
分类号 H01L29/772;H01L21/00 主分类号 H01L29/772
代理机构 代理人 詹铭文;萧锡清
主权项
地址 日本