发明名称 超接合半导体装置结构及方法
摘要 在一项具体实施例中,一种电荷补偿区域系形成于半导体材料的本体中。一导电层系耦合至该电荷补偿层。在进一步的具体实施例中,该电荷补偿区域包含以相反导电率类型半导体层填充的沟渠。
申请公布号 TW200633218 申请公布日期 2006.09.16
申请号 TW094140292 申请日期 2005.11.16
申请人 半导体组件工业公司 发明人 盖瑞H 罗却特;彼得J 德贝尔;哥登M 葛里纳
分类号 H01L29/78;H01L21/336;H01L29/06 主分类号 H01L29/78
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 美国
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