发明名称 闸结构及其制造方法
摘要 本发明系一种闸结构及其制造方法,系一具有闸极的金属氧化物半导体(MOS)电晶体,该闸极依序包括一道绝缘层,一道金属矽化物层,一道导电封装材料层,和一道多晶矽层。
申请公布号 TW200633216 申请公布日期 2006.09.16
申请号 TW094134627 申请日期 2005.10.04
申请人 史特微电子柯罗里斯2股份有限公司;皇家飞利浦电子股份有限公司 KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V. 荷兰 发明人 马克斯 孟勒;班诺 福门特
分类号 H01L29/78;H01L21/336 主分类号 H01L29/78
代理机构 代理人 严国杰
主权项
地址 法国