曝光方法、电子元件制造方法、曝光装置以及照明光学装置

摘要

本发明之目的在于提供一种高解析度且廉价之曝光方法，其是于形成构成电子元件之微细图案时所使用之适宜的曝光方法。本发明之曝光方法包括：将两个绕射光栅中联于光路中，且将构成电子元件之晶圆等与两个绕射光栅以特定间隔进行配置，并使绕射光栅所产生的干涉条纹之明暗图案于晶圆等上曝光。根据需要，改变半导体晶圆与该绕射光栅之位置关系并进行上述曝光。