首页
产品
黄页
商标
征信
会员服务
注册
登录
全部
|
企业名
|
法人/股东/高管
|
品牌/产品
|
地址
|
经营范围
发明名称
曝光装置与曝光方法以及微元件的制造方法
摘要
本发明的目的是对多个光学单元之间所发生的图样的像的投影位置的偏移进行补正。本发明的解决手段涉及一种曝光装置,其使由具有多个光学单元L1~L13之光学系统所投影的图样的像曝光转印至物体P上。此曝光装置包括一种补正装置,其对由多个光学单元L1~L13投影在此物体P上的多个像之中至少1个像的位置进行补正,以补偿多个光学单元L1~L13的变动。
申请公布号
TW200632588
申请公布日期
2006.09.16
申请号
TW095102747
申请日期
2006.01.25
申请人
尼康股份有限公司
发明人
加藤正纪;清水贤二;户口学;渡边智行
分类号
G03F7/20;G03F9/00;H01L21/027
主分类号
G03F7/20
代理机构
代理人
詹铭文;萧锡清
主权项
地址
日本
您可能感兴趣的专利
Process and apparatus for recovering aluminium from scrap metal
Gas turbine apparatus
180 Cable roller
Improvements relating to security marking
Fume extraction system
Receptacle support
Method of and apparatus for transmitting a television signal
Game
Laser disc storage box
Adjustable trestle
Level measurement
Insecticide:materials and methods
Industrial truck with a battery block
Mixing head
DC/DC converter
Conduit and continuous coiled tubing system and method of assembly thereof
Trolley camera position detecting apparatus
A robot device for detecting a ground target
METHOD FOR PROTECTING EXECUTABLE SOFTWARE PROGRAMS AGAINST INFECTION BY SOFTWARE VIRUSES
Suction conveyor