| 摘要 |
一用于制造石英薄膜之设备，包含一反应容器，其由石英所制成及配备有一气体出口；一基板夹具，其配置在该反应容器中(该基板夹具选择性地置于一屏蔽圆柱体中，该屏蔽圆柱体沿着该反应容器之内部表面配置于该反应容器中，其中该屏蔽圆柱体具有一由对于气态氧化矽系非活性的材料所制成之内部表面)；一第一气体入口管子，其系经过其外侧端部连接至一含有矽烷氧化物来源容器，且具有一面朝待固定至该基板夹具上之基板或一平面的内侧端部，该平面以一空间环绕着该基板；及一第二气体入口管子，其系经过其外侧端部连接至包含一含氧气体来源之容器，且其具有一面朝待固定至该基板夹具上之基板或以一空间环绕着该基板的平面之内侧端部，该空间小于该基板及该第一气体入口管子的内侧端部间之空间。 |
