Verfahren zum Herstellen einer dünnen Magnesiumoxidschicht mittels Plasma-Oxidation

摘要

Beschrieben wird ein Verfahren zum Herstellen von dünnen Magnesiumoxidschichten auf einem Substrat, wobei zunächst eine Schicht aus metallischem Magnesium auf dem Substrat aufgebracht und danach die Magnesiumschicht in eine Magnesiumoxidschicht durch Behandlung in einem Sauerstoffionen enthaltenden Plasma umgewandelt wird. Mit diesem Verfahren konnten insbesondere TMR-Schichtsysteme hergestellt werden, bei denen die isolierende Barriere- oder Zwischenschicht mit dem vorgenannten Verfahren hergestellt wird. Das beschriebene Verfahren ermöglicht sehr dünne Magnesiumoxidschichten mit geringen Dicken-Toleranzen.