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发明名称 Method for Deprocessing Dielectric Layer of Semiconductor Device
摘要
申请公布号 KR100620699(B1) 申请公布日期 2006.09.13
申请号 KR20040112418 申请日期 2004.12.24
申请人 发明人
分类号 H01L21/3063 主分类号 H01L21/3063
代理机构 代理人
主权项
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