| 主权项 |
1.一种用以形成氧化钛膜之涂布剂,含有:(A)使通式Ti(OR)4 (1)(式中,R为相同或相异之碳原子数1-5之烷基)所示之四烷氧基钛及/或该四烷氧基钛相互发生缩合反应而成之缩合度2-30之低缩合物与下述比例之过氧化氢水混合而获得的过氧钛酸水溶液,且前述比例为:相对于四烷氧基钛及/或其低缩合物10重量份,以过氧化氢换算,系于0.1-100重量份范围内;及(B)选自于由羟基羧酸、含羟基之有机亚磷酸、含羧基之有机亚磷酸及该等之盐所构成群组中之至少一种化合物;且过氧钛酸水溶液(A)与化合物(B)之含有比例为:相对于前者之固体成分100重量份,后者为1-400重量份。2.如申请专利范围第1项之用以形成氧化钛膜之涂布剂,其中前述过氧钛酸水溶液(A)系一种于氧化钛溶胶存在下将四烷氧基钛及/或其低缩合物与过氧化氢水混合而制得之过氧钛酸水溶液。3.如申请专利范围第2项之用以形成氧化钛膜之涂布剂,其中前述氧化钛溶胶系一种锐钛矿型氧化钛之水分散液。4.如申请专利范围第2项之用以形成氧化钛膜之涂布剂,其中前述氧化钛溶胶之使用量系相对于水解性钛化合物及/或其低缩合物1重量份,以固体成分计系0.01-10重量份。5.如申请专利范围第1项之用以形成氧化钛膜之涂布剂,其系一种pH1-10之水性溶液。6.如申请专利范围第5项之用以形成氧化钛膜之涂布剂,其系一种pH1-9之水性溶液。7如申请专利范围第1项之用以形成氧化钛膜之涂布剂,其更含有无机磷氧化合物。8.如申请专利范围第1项之用以形成氧化钛膜之涂布剂,其更含有选自钛卤化物、钛卤化物盐、锆卤化物、锆卤化物盐、矽卤化物及矽卤化物盐所构成之群中至少1种之卤化物。9.如申请专利范围第1项之用以形成氧化钛膜之涂布剂,其更含有水性有机高分子化合物。10.一种氧化钛膜之形成方法,系将申请专利范围第1项之用以形成氧化钛膜之涂布剂涂布于金属基材再进行乾燥者。11.一种披覆有氧化钛膜之金属基材,系于金属基材表面上形成有申请专利范围第1项之用以形成氧化钛膜之涂布剂的涂膜者。12.如申请专利范围第11项之披覆有氧化钛膜之金属基材,其中前述涂膜之乾燥重量为0.001-10g/m2。13.如申请专利范围第11项之披覆有氧化钛膜之金属基材,其中前述金属基材系一种钢材。14.如申请专利范围第11项之披覆有氧化钛膜之金属基材,其中前述金属基材系一种铝材或铝合金材。 |
