发明名称 | 电极隔离壁 | ||
摘要 | 一种电极隔离壁,系在一已形成条状第一电极之基板上,形成与该第一电极垂直之电极隔离壁结构,系利用一般正型光阻材料,先以斜向曝光,再以垂直曝光之两次曝光方式,显影形成该电极隔离壁。该电极隔离壁将形成一与该下底面垂直之第一侧面,及一第二侧面与该基板表面形成一锐角夹角,形成一侧面外悬凸出之结构,如此当后续第二电极镀膜上去时,因该上底面一侧边外悬凸出,可隔断第二电极的金属成膜于两个电极隔离壁之间,而达成电极分隔的目的。 | ||
申请公布号 | TWI261868 | 申请公布日期 | 2006.09.11 |
申请号 | TW094130455 | 申请日期 | 2005.09.06 |
申请人 | 胜华科技股份有限公司 | 发明人 | 郭建忠;周孚正;周怡伶;蔡宛真;游明璋 |
分类号 | H01L21/02 | 主分类号 | H01L21/02 |
代理机构 | 代理人 | ||
主权项 | 1.一种电极隔离壁,系设于具有已图案化第一电极之基板上,该电极隔离壁包括:一下底面,系该电极隔离壁与该基板之接触面;一上底面,系该电极隔离壁与该下底面平行之平面,且该上底面宽度大于该下底面;一第一侧面,系该电极隔离壁之一侧面,且该第一侧面与该下底面垂直;一第二侧面,系相对于该第一侧面之另一侧面,且该第二侧面与该基板表面形成一锐角夹角。2.如申请专利范围第1项所述之电极隔离壁,其中该电极隔离壁与该基板上之第一电极图案呈垂直。3.如申请专利范围第1项所述之电极隔离壁,其中该夹角系为15至75间。4.如申请专利范围第2项所述之电极隔离壁,其中该夹角最佳角度为30至60间。图式简单说明:第1图,系习知之电极隔离壁之剖面示意图。第2图,系本发明之电极隔离壁之剖面示意图。第3-1图-第3-3图,系本发明之电极隔离壁制作流程之剖面示意图。第4-1图-第4-5图,系本发明之另一电极隔离壁制作流程之剖面示意图。 | ||
地址 | 台中县潭子乡台中加工出口区建国路10号 |