主权项 |
1.一种磁性基材之积层体,其特征为,系由高分子化 合物层与磁性金属薄板所构成之磁性基材之积层 体,金属彼此在薄板间为局部接触,垂直于积层体 之黏接面方向之由JIS H 0505所定义之体积电阻率为 0.1-未满108cm。 2.如申请专利范围第1项之磁性基材之积层体,其中 ,上述高分子化合物层系覆盖上述磁性金属薄板之 积层黏接面面积之50%以上,垂直于积层体之黏接面 方向之由JIS H 0505所定义之体积电阻率为1cm以上 、106cm以下。 3.如申请专利范围第1项之磁性基材之积层体,其中 ,作为使用于上述磁性基材之积层体之构成磁性基 材之磁性金属薄板,系使用二种类以上之磁性金属 薄板。 4.如申请专利范围第1项之磁性基材之积层体,其中 ,上述磁性金属薄板为由非晶质金属、奈米结晶磁 性金属或矽钢板所选出之至少二种以上之金属。 5.如申请专利范围第3项之磁性基材之积层体,其中 ,上述磁性金属薄板为非晶质金属与矽钢板。 6.一种申请专利范围第1项之磁性基材之积层体之 制造方法,其特征为,系将两片以上之由高分子化 合物层与磁性金属薄板所构成之磁性基材重叠,使 金属彼此在薄板间以局部接触的方式以0.2-100MPa加 压。 7.一种申请专利范围第1项之磁性基材之积层体之 制造方法,其特征为,将高分子化合物以磁性金属 薄板面积之50%以上的方式涂布在该磁性金属薄板 上后,进行乾燥,将所得之磁性金属薄板予以冲孔 并重叠,且使之塑性变形,将之以0.2-100MPa加压并加 热,使之积层一体化而得。 8.如申请专利范围第7项之磁性基材之积层体之制 造方法,其中,塑性变形之方法系填隙(calking)步骤 。 9.如申请专利范围第1或3项之磁性基材之积层体, 其系使用于变压器、感应线圈、天线之任何一者 。 10.如申请专利范围第1或3项之磁性基材之积层体, 其系使用在马达或发电机之定子(stator)或转子( rotor)之磁芯材料。 |