光阻剂用剥离液与使用其之光阻剂剥离方法

摘要

揭示含有(a)含氮有机羟基化合物、(b)水溶性有机溶剂、(c)水、及(d)特定之苯并三唑系化合物所构成之光阻剂用剥离液、及使用其之光阻剂剥离方法。根据本发明，则可提供特别于使用液晶显示元件等所利用之SiO2基板之领域中，于形成金属配线、特别为Cu配线之基板、或者对于金属配线和聚矽氧膜等无机材料层所形成之基板的防蚀性优良，并且，光阻层、变质膜之剥离性优良之光阻剂用剥离液、及使用其之光阻剂剥离方法。

主权项

1.一种光阻剂用剥离液,其为含有10~65重量%之(a)含 氮有机羟基化合物、10~60重量%之(b)水溶性有机溶 剂、5~50重量%之(c)水及0.1~10重量%之(d)下述一般式( I)