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发明名称 Verwendung einer Antireflexbeschichtungszusammensetzung und Herstellungsverfahren für eine Antireflexschicht und ein Halbleiterbauelement
摘要
申请公布号 DE4414808(B4) 申请公布日期 2006.09.07
申请号 DE19944414808 申请日期 1994.04.28
申请人 SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. 发明人 PARK, CHUN-GEUN;YEO, GI-SUNG;PARK, JUNG-CHUL
分类号 G03F7/11;H01L21/312;G03F7/09;G03F7/40;H01L21/027 主分类号 G03F7/11
代理机构 代理人
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