METHOD FOR STRIP OF PHOTORESIST IN SEMICONDUCTOR DEVICE,申请号KR20050090898-传众专利搜索

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发明名称	METHOD FOR STRIP OF PHOTORESIST IN SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号	KR100623923(B1)	申请公布日期	2006.09.07
申请号	KR20050090898	申请日期	2005.09.29
申请人	HYNIX SEMICONDUCTOR INC.	发明人	JUNG, TAE WOO;LEE, SUNG KWON
分类号	H01L21/027;H01L21/28	主分类号	H01L21/027
代理机构		代理人
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