发明名称 |
对称及自对准的非易失性存储器结构 |
摘要 |
一半导体基板上的存储器结构必要的包含一第一导线、两导电块、两第一介电间隔区、一第一介电层,和一第二导线。该第一导线,如一多晶硅线,是形成于该半导体基板上;且该两由多晶硅组成的导电块是,如形成于该第一导线的两侧,并由两第一介电间隔区与该第一导线绝缘。该第一介电层,如一个氧化物/氮化物/氧化物(ONO)层,是形成与两导线块上和第一导线上;且第二导线是形成于第一介电层上,并大致垂直于该两掺杂区。相应的,导电块、第一介电层及第二导线堆形成一浮栅结构,其可用于存储电荷。该第一导线和导电块分别用作一选择栅和浮栅,然,掺杂区和第二导线分别用作位线和一字线。 |
申请公布号 |
CN1828907A |
申请公布日期 |
2006.09.06 |
申请号 |
CN200510132678.6 |
申请日期 |
2005.12.20 |
申请人 |
擎泰科技股份有限公司 |
发明人 |
熊福嘉 |
分类号 |
H01L27/115(2006.01);H01L29/788(2006.01) |
主分类号 |
H01L27/115(2006.01) |
代理机构 |
北京纪凯知识产权代理有限公司 |
代理人 |
程伟 |
主权项 |
1.一种在一半导体基板上两掺杂区间形成的存储器结构,其特征在于包含:一第一导线,形成于该半导体基板上;两导电块,形成于该第一导线两侧,并由两者间的两第一介电间隔区与第一导线绝缘;一第一介电层,形成于两第二导电块之间;一第二导线,形成于第一介电层上并大体上垂直于该两掺杂区。 |
地址 |
中国台湾新竹 |