发明名称 |
具有隔离层的屏蔽及包含此屏蔽的工艺设备 |
摘要 |
一种屏蔽装置及配合使用的蒸镀工艺设备。屏蔽装置主要包含屏蔽本体及隔离层。屏蔽本体包含对应于蒸镀源的蒸镀源面,隔离层则形成于蒸镀源面上。隔离层的接触角是大于蒸镀源面的接触角。蒸镀工艺设备主要包含蒸镀单元、隔离层形成单元及屏蔽传输装置。隔离层形成单元与蒸镀单元连接。屏蔽传输装置分别连接至蒸镀单元及隔离层形成单元的内部。当屏蔽装置于隔离层形成单元中完成反应并形成隔离层后,屏蔽传输装置将形成有隔离层的屏蔽装置传送至蒸镀单元进行蒸镀程序。 |
申请公布号 |
CN1827836A |
申请公布日期 |
2006.09.06 |
申请号 |
CN200610075368.X |
申请日期 |
2006.04.11 |
申请人 |
友达光电股份有限公司 |
发明人 |
刘醕炘 |
分类号 |
C23C14/04(2006.01);C23C14/24(2006.01) |
主分类号 |
C23C14/04(2006.01) |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 |
代理人 |
陶凤波;侯宇 |
主权项 |
1.一种屏蔽装置,供在一蒸镀工艺中与一基板配合使用,该屏蔽装置包含:一屏蔽本体,包含一蒸镀源面;以及一隔离层,该隔离层形成于该蒸镀面上,其中该屏蔽本体位于该隔离层及该基板之间。 |
地址 |
中国台湾新竹市 |