发明名称 | 用于在纹理映射中适应性重新取样的系统 | ||
摘要 | 一种用于将三维图形模型的图元从纹理空间映射到屏幕空间的装置。所述装置包括用于存储纹理图的纹理存储器(134)。重新取样器(132,140)对于每个图元将数据从与图元对应的纹理图重新取样到对应的像素数据,其中所述像素数据用于定义与图元对应的显示图像的一部分。所述纹理空间重新取样器(132)和/或屏幕空间重新取样器(140)可用于从至少两个不同的重新取样算法的一个单独组中选择用于执行重新取样的重新取样算法。所述选择取决于图元的大小。 | ||
申请公布号 | CN1830007A | 申请公布日期 | 2006.09.06 |
申请号 | CN200480021830.7 | 申请日期 | 2004.07.21 |
申请人 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 发明人 | 巴尔特·G·B·巴伦布吕格;科内利斯·梅德斯 |
分类号 | G06T15/20(2006.01) | 主分类号 | G06T15/20(2006.01) |
代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 王英 |
主权项 | 1.一种用于将三维图形模型的图元从纹理空间映射到屏幕空间的装置;所述装置包括用于存储纹理图的纹理存储器(134);以及可用于对每个图元将数据从与该图元对应的纹理图重新取样到对应的像素数据的重新取样器(132,140),其中所述像素数据用于定义与该图元对应的显示图像的一部分;所述重新取样器可用于从至少两个不同重新取样算法的一个单独组中选择用于执行该重新取样的重新取样算法;所述选择取决于该图元的大小。 | ||
地址 | 荷兰艾恩德霍芬 |