发明名称 抗高温应力的应力绝缘体上半导体结构
摘要 本发明涉及绝缘体上半导体结构,包括由半导体材料制成的部分和由电绝缘材料制成的部分,所述材料彼此结合。弹性应力存在于半导体材料中。由电绝缘材料所制成的部分具有高于SiO<SUB>2</SUB>粘滞温度T<SUB>GSiO2</SUB>的粘滞温度T<SUB>G</SUB>。本发明还涉及用于制造所述绝缘体上半导体结构的方法。
申请公布号 CN1830078A 申请公布日期 2006.09.06
申请号 CN200480021742.7 申请日期 2004.07.28
申请人 S.O.I.TEC绝缘体上硅技术公司 发明人 B·吉斯勒;C·奥尔内;O·雷萨克
分类号 H01L21/762(2006.01) 主分类号 H01L21/762(2006.01)
代理机构 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人 程伟
主权项 1.一种绝缘体上半导体结构,包括由半导体材料制成的部分和电绝缘材料的部分,彼此结合,弹性约束是在所述半导体材料的部分中,其中所述电绝缘材料的部分具有高于SiO2粘滞温度TGSiO2的粘滞温度TG。
地址 法国贝尔尼