| 发明名称 | 制造图案化记录介质的方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种制造图案化记录介质的方法。该方法包括：将磁薄膜置于基片上；将硬质掩膜排列在磁薄膜上方，所述硬质掩膜具有多个规则分布在其中的通孔；照射硬质掩膜；和移走硬质掩膜。 | ||
| 申请公布号 | CN1828732A | 申请公布日期 | 2006.09.06 |
| 申请号 | CN200610058141.4 | 申请日期 | 2006.03.06 |
| 申请人 | 三星电子株式会社 | 发明人 | 李丙圭 |
| 分类号 | G11B5/84(2006.01) | 主分类号 | G11B5/84(2006.01) |
| 代理机构 | 北京铭硕知识产权代理有限公司 | 代理人 | 韩明星;常桂珍 |
| 主权项 | 1、一种制造图案化记录介质的方法，该方法包括：将磁薄膜置于基片上；将硬质掩膜排列在磁薄膜上方，所述硬质掩膜具有多个规则地分布在其中的通孔；照射硬质掩膜；和移走硬质掩膜。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||