发明名称 |
晶片研磨机的保护结构 |
摘要 |
本实用新型提供一种晶片研磨机的保护结构,其包括有一研磨机本体,具有一外环体,于该外环体中套设一与该外环体内壁紧配合的内环体;一固定装置,容置在上述研磨机本体的内环体中,一伸缩装置,套置在上述固定装置外部;一旋转装置,设置在伸缩装置中间并可旋转;一遮体,自上述研磨机本体的内环体底端盖设入;一底盖,自底端盖设上述遮体;如上述构造,通过遮体的遮挡保护,可防止操作时金刚砂以及杂质粉尘等喷入研磨机本体的内环体对各构件产生磨擦损耗。 |
申请公布号 |
CN2812290Y |
申请公布日期 |
2006.08.30 |
申请号 |
CN200520092035.9 |
申请日期 |
2005.08.02 |
申请人 |
童德黉;童德观 |
发明人 |
童德黉;童德观 |
分类号 |
H01L21/304(2006.01);B24B37/04(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/304(2006.01) |
代理机构 |
沈阳科苑专利商标代理有限公司 |
代理人 |
周秀梅 |
主权项 |
1.一种晶片研磨机的保护结构,其特征在于包括:一研磨机本体,具有一外环体,并于该外环体中套设一与该外环体内壁紧配合的内环体,且该内环体外壁下端向内凹缩形成一环形沟槽;一固定装置,容置在上述研磨机本体的内环体中,使该固定装置的底面锁固在该内环体的内侧上端;一伸缩装置,套置在上述固定装置外部,使该伸缩装置可在上述研磨机本体内向下伸缩;一旋转装置,设置在伸缩装置中间并可旋转;一遮体,自上述研磨机本体的底端盖设入,该遮体顶缘恰对应上述环形沟槽,且该遮体底端设有一通孔,该通孔恰与上述旋转装置对应;一底盖,自底端盖设上述遮体,该底盖上设有一作用孔,恰与上述旋转装置对应,旋转装置可经该通孔及该作用孔伸出作旋转研磨;通过遮体的遮挡保护,可防止操作时金刚砂以及杂质粉尘等落入研磨机本体的内环体内,对各构件产生磨擦损耗。 |
地址 |
台湾省桃园县八德市重庆街213巷6弄23号 |