发明名称 制作单面镂空板的方法
摘要 本发明公开了一种制作单面镂空板的方法,旨在提供一种用于印刷电路板行业中简化了生产流程、提高了效率和精确度且成本低的制作单面镂空板的方法。本发明可采用先制作线路再蚀刻PI层的方法:开料→钻孔→前处理→贴干膜→曝光→显影→蚀刻铜层→脱膜→再次贴干膜(FX-940)→再次曝光→再次显影→蚀刻PI层→后处理→再次脱膜→表面处理→贴压包封;也可采用先蚀刻PI层再制作线路的方法:开料→钻孔→前处理→贴干膜(FX-940)→曝光→显影→蚀刻PI层→后处理→脱膜→再次贴干膜→再次曝光→再次显影→蚀刻铜→再次脱膜→表面处理→贴压包封。本发明应用于印刷电路板行业制作单面镂空板。
申请公布号 CN1826035A 申请公布日期 2006.08.30
申请号 CN200610032862.8 申请日期 2006.01.12
申请人 珠海元盛电子科技有限公司 发明人 何波
分类号 H05K3/02(2006.01);H05K3/04(2006.01);H05K3/06(2006.01) 主分类号 H05K3/02(2006.01)
代理机构 广州市红荔专利代理有限公司 代理人 李彦孚
主权项 1、一种制作单面镂空板的方法,其特征在于,它是按照以下步骤进行:(1)、开料、钻孔,裁取符合设计要求的有聚酰亚胺基膜的单面铜板,并根据设计要求在所述单面铜箔上钻孔;(2)、前处理,利用刷磨或化学清洗的方法除去所述单面铜板表面的油污,氧化层,水分等,并使铜箔表面粗糙,增大铜箔和干膜接触面的附着力;(3)、贴干膜,在处理过所述单面铜板的铜面上贴上一层感光性膜层;(4)、曝光,将贴有干膜的所述单面铜板在紫外光下照射,将菲林上的线路图形转移到所述单面铜板上,形成一种抗蚀的掩膜图形;(5)、显影,将曝光后所述单面铜板浸于显影液中,曝光部分不溶于显影液,而未曝光部分可通过显影除去,露出需要蚀刻掉的铜箔;(6)、蚀刻铜箔,将曝光、显影后所述单面铜板浸于铜蚀刻液中,露出铜箔的地方就被蚀刻掉,得到我们需要的线路;(7)、脱膜,除掉步骤(6)中用于保护线路的干膜;(8)、再次贴干膜,在做好线路的所述单面铜板的两面贴上一层杜邦FX-940干膜;(9)、再次曝光,将贴有杜邦FX-940干膜的所述单面铜板在紫外光下照射,将菲林上的线路图形再次转移到所述单面铜板上,形成一种抗蚀的掩膜图形;(10)、再次显影,将曝光后所述单面铜板浸于显影液中,曝光部分不溶于显影液,而未曝光部分可通过显影除去,露出需要蚀刻聚酰亚胺基膜。(11)、蚀刻聚酰亚胺基膜,在100~120℃的温度下,将再次曝光、显影后所述单面铜板浸入聚酰亚胺蚀刻液中反应三分钟后,露出的聚酰亚胺基膜被蚀刻掉;(12)、后处理,清除蚀刻后带出大量的聚酰亚胺蚀刻液;(13)、再次脱膜,采用低浓度氢氧化钠溶液或工业酒精清除步骤(12)中用于保护不开窗口部分的杜邦FX-940干膜;(14)、表面处理后贴压包封。
地址 519060广东省珠海市香洲区科技工业园珠海元盛电子科技有限公司