用于制造薄膜磁头的方法

摘要

在绝缘薄膜上形成一电镀底基层。在电镀底基层上形成抗反射膜。在抗反射膜上形成光刻胶。曝光和显影光刻胶和抗反射膜，以便形成由其制造的抗蚀性组织。在由抗蚀性组织包围的内部图案中形成第二磁性层。抗反射膜由经过曝光对于显影剂可溶解的物质组成。

主权项

1.一种制造方法，用于制造具有记录元件的薄膜磁头，此记录元件具有第一磁性层、绝缘薄膜、线圈薄膜和第二磁性层，其中所述第一磁性层和所述第二磁性层构成薄膜磁路，并且所述绝缘薄膜被设置在所述第一磁性层和所述第二磁性层之间并且支撑所述线圈薄膜，所述第二磁性层被设置在所述绝缘薄膜上，包括步骤：在所述第一磁性层、所述线圈薄膜和所述绝缘薄膜形成之后并且在所述第二磁性层形成之前，形成电镀底基层，在所述电镀底基层上形成抗反射膜，在所述抗反射膜之上涂覆光刻胶，曝光和显影所述光刻胶和所述抗反射膜，以形成由其制造的抗蚀性组织，并且在由所述抗蚀性组织包围的内部图案中形成所述第二磁性层，其中所述抗反射膜由经过曝光对于显影剂可溶解的物质组成。