| 发明名称 | 表面检查的方法和设备 | ||
| 摘要 | 检查晶片表面的一种方法和一种设备，其中，两种或更多种激光可以切换或混合，使激光以同一入射角入射镀有薄膜的检查对象上，其中，以彼此关联的方式，存储有关检查设备的检查数据和有关检查对象上薄膜的薄膜参数，以便获得预定的检查条件。当进行每种测量时，操作员用检查设备的设置装置，设置待测量晶片的薄膜参数。从而，需要的检查条件自动地在检查设备中设置。操作员在每种测量中设置的薄膜参数，是薄膜的厚度和折射率。 | ||
| 申请公布号 | CN1272844C | 申请公布日期 | 2006.08.30 |
| 申请号 | CN200310100669.X | 申请日期 | 2003.10.09 |
| 申请人 | 拓普康株式会社 | 发明人 | 矶崎久;山崎伦敬;吉川浩;高濑壮宏;志田裕;岩阳一郎 |
| 分类号 | H01L21/66(2006.01);G01N21/88(2006.01);G01B11/30(2006.01) | 主分类号 | H01L21/66(2006.01) |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 蒋世迅 |
| 主权项 | 1.一种用于多个镀有薄膜的检查对象的表面检查方法，其中，两种或更多种激光可以切换或混合，使激光以同一入射角入射到镀有薄膜的检查对象上，该方法包括的步骤有：以彼此关联的方式，存储有关检查设备的检查数据和有关每个检查对象上薄膜的薄膜参数，以便获得预定的检查条件；和在进行测量时，通过操作员向检查设备设置待测检查对象的薄膜参数，在检查设备中自动地设置预定的检查条件；其中在检查对象具有不同薄膜厚度并且在一条线中混合的情况下，测量检查对象。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||