| 发明名称 | 掩模、掩模的制造方法、图案形成装置、图案形成方法 | ||
| 摘要 | 本发明是用于对被成膜基板形成具有第一图案的薄膜的掩模(M)，具备：具有与第一图案相对应的开口部分(22)的非磁性体基板(S)，和在非磁性体基板(S)上所配置的具有第二图案的磁性体膜(28)。因此，本发明的目的在于，提出了能较容易地防止由自身重量引起的挠曲的掩模、掩模的制造方法、还有利用这些掩模的成膜装置等。 | ||
| 申请公布号 | CN1824826A | 申请公布日期 | 2006.08.30 |
| 申请号 | CN200610009566.6 | 申请日期 | 2006.02.24 |
| 申请人 | 精工爱普生株式会社 | 发明人 | 四谷真一 |
| 分类号 | C23C14/04(2006.01);C23C14/24(2006.01);H05B33/10(2006.01);H05B33/14(2006.01);G03F1/00(2006.01) | 主分类号 | C23C14/04(2006.01) |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 汪惠民 |
| 主权项 | 1、一种掩模，用于对被成膜基板形成具有第一图案的薄膜，具备：非磁性体基板，其具有与所述第一图案相对应的开口部分；和磁性体膜，其被配置在所述非磁性体基板上并具有第二图案。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||