发明名称 | 氧化锡多孔薄膜及其制备方法 | ||
摘要 | 本发明公开了一种氧化锡多孔薄膜及其制备方法,属于一种功能材料。本发明需要解决的技术问题是提供一种氧化锡多孔薄膜及其制备方法,用这种方法所制成的氧化锡多孔薄膜,其孔隙率高,比表面积大。本发明的技术方案要点是,氧化锡多孔薄膜,孔径为0.01-1000μm,孔隙率为20%-70%,比表面积为10m<SUP>2</SUP>/g-150m<SUP>2</SUP>/g。氧化锡多孔薄膜的制备方法,将锡源和有机酸置于反应器中在100-280℃在下搅拌溶解得到锡的有机物前驱体,将上述前驱体放入马弗炉内在大于300℃条件下控温烧结,制成氧化锡多孔薄膜。有机酸为柠檬酸或者乌头酸。锡源为金属锡、二氯化锡、四氯化锡中的任一种。本发明可用于气敏元件、锂电池阴极材料、催化、分离吸附、光学及环境污染治理等领域。 | ||
申请公布号 | CN1824627A | 申请公布日期 | 2006.08.30 |
申请号 | CN200610017389.6 | 申请日期 | 2006.01.20 |
申请人 | 河南师范大学 | 发明人 | 娄向东;王晓兵;赵晓华 |
分类号 | C04B38/00(2006.01) | 主分类号 | C04B38/00(2006.01) |
代理机构 | 新乡市平原专利有限责任公司 | 代理人 | 毋致善 |
主权项 | 1、氧化锡多孔薄膜,其特征在于:孔径为0.01-1000μm,孔隙率为20%-70%,比表面积为10m2/g-150m2/g。 | ||
地址 | 453007河南省新乡市建设路东段46号 |